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发布时间:2021-09-09 03:12

  上海新阳3月11日晚公告,近日,由子公司芯刻微委托盛吉盛代理投标,成功中标购得ASML XT1900 Gi型二手光刻机一台,该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。后续公司将启动设备的运输及相关安装调试等工作。

  上海新阳3月11日晚公告,近日,由子公司芯刻微委托盛吉盛代理投标,成功中标购得ASML XT1900 Gi型二手光刻机一台,该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。后续公司将启动设备的运输及相关安装调试等工作。

  尽管公告并未透露上述二手光刻机的价格,但可以参考的是,2020年9月,同处半导体材料领域的晶瑞股份计划斥资1102.5万美元购买ASML的光刻机设备。晶瑞股份后面披露的公告显示,该光刻机为ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻机。

  这也不是上海新阳第一次购买ASML的光刻机。公司3月8日公告称,自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来,安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备。该光刻机原计划2020年底前运抵国内,但由于公司与光刻机供应商、合作方沟通协调设备运输与安装等细节,致使设备没能在规定时间内运达,预计于2021年3月底前进入合作方现场。

  上海新阳表示,公司作为国内集成电路制造关键工艺材料供应商,将突破集成电路高端光刻胶国外垄断,实现集成电路高端光刻胶材料的国产化作为发展目标,在ArF干法、KrF厚膜及I线光刻胶方面已有技术与产品的突破。

  而且,通过子公司芯刻微开展的ArF湿法光刻胶项目研发也已引进了核心技术专家团队,为ArF湿法光刻胶项目的开发提供了技术保障。现采购ASML浸没式光刻机设备是对公司ArF湿法光刻胶技术先进性的设备保障,对加快公司集成电路制造用光刻胶产品研发项目进度有积极影响,有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力,加速落实公司发展战略,提高公司抗风险能力和可持续发展能力。

  上海新阳强调,光刻胶产品在集成电路材料中技术难度大,质量要求最高,开发周期长,且核心技术及原材料几乎被国外厂商所垄断。因此,存在着研发失败和研发计划滞后的风险。

  公告显示,3月11日,芯刻微向盛吉盛支付10%首期货款购入该光刻机,剩余款项在6个月内付清。


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